EN
Čistění rozpouštědlem
Sušení a čištění rozpouštědlem odstraněním vlhkosti, kyslíku atd.
Průmyslové rozpouštědla nízké čistoty lze čistit na vysokou čistotu
- Příslušenství
Příslušenství
Čistění rozpouštědlem
Sušení a čištění rozpouštědlem odstraněním vlhkosti, kyslíku atd.
Průmyslové rozpouštědla nízké čistoty lze čistit na vysokou čistotu
následující rozpouštědla lze čistit jednotlivě nebo společně:
uhlovodíkové sloučeniny, jako jsou: benzen, ethan, chlor, dichlorid ethylenu; dipolarní, neprotonové rozpouštědla, jako jsou: acetonitril, dimethylamid, nitro-metan; alkoholáty, jako jsou: metan, ethanol, butanol, étery
